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Video · RunwayDisponibile in FAC

Gen-4.5 e Aleph 2.0 possono girare su infrastruttura dedicata

Gen-4.5 e Aleph 2.0 possono girare su infrastruttura dedicata
Illustrazione generata con Nano Banana 2.1

Baseten ha annunciato il 14 ottobre un accordo con Runway per distribuire Gen-4.5 e Aleph 2.0 in ambienti single-tenant. L’azienda cliente ottiene la licenza dei pesi direttamente da Runway e li esegue su risorse GPU dedicate gestite da Baseten. L’offerta comprende anche versioni fine-tuned e capacità riservata. Il fatto nuovo è quindi il modo di distribuire i modelli, non un miglioramento dichiarato della generazione: per uno studio può diventare una strada da valutare quando isolamento dei carichi e personalizzazione contano più della semplicità di un servizio condiviso. ([baseten.co])

Annuncio
14 ottobre
Modelli
Gen-4.5 e Aleph 2.0
Infrastruttura
Ambienti single-tenant con GPU dedicate gestite da Baseten
Licenza dei pesi
Ottenuta dal cliente direttamente da Runway
Opzioni
Versioni fine-tuned e capacità riservata

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